洗浄機

回転を利用してwaferや基板の表面を洗浄・乾燥する枚葉式洗浄装置です。
真空チャックでwaferや基板を吸着し、回転することによる遠心力を利用して洗浄液を均一に広げたり汚れを飛ばしたりし洗浄します。
除去対象によりスプレー、パドル、ブラシ等の利用をご提案できます。
乾燥工程ではN2ブローを利用したスピンドライを実現します。