製品紹介

半導体製造プロセスにおいて、レジストや保護膜、スプレーコーター ディスプレイ用角基板上へのレジストやCFを均一に塗布します。
高精度な膜厚調整と塗布パターン制御を実現し、微細化が進む半導体の製造工程で必要とされる高い精度を提供します。
製造ラインの効率化を支え、安定した品質の確保に貢献します。

半導体製造プロセスにおいて、waferやガラス基板上の微細な汚れや異物を効率的に除去します。
また異物の再付着を防止する保護膜等の除去にも適しております。
スプレー・パドル・ブラシ等、効果的な洗浄方法を組合せ、高精度な洗浄を実現。
高いクリーン度を要求される半導体製造において、確実な品質管理と安定した性能を提供します。

半導体製造プロセスにおいて、露光処理後のレジストパターンの正確な現像を行います。
温度管理や流体制御を最適化し、高密度なパターン形成を実現します。微細化が進む製造工程において、安定した品質を提供し、最終製品の精度向上に貢献します。